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馗鼎奈米科技不断创新研发，在电浆技术的领域上不断推陈出新，将于近日发表新一代宽幅式常压电浆（大气电浆）设备。
馗鼎表示，新一代宽幅式常压电浆将于今年十月份TCPA SHOW新产品发表会上发表，此项新的技术除了让原本应用点状式常压电浆的厂商多一项选择之外，更让原本需进行较大面积清洗或改质的产业如PCB、LCD、IC封装及塑料原物料制造商可以有更快、更有效的处理方式。可直接在大气环境下高速将微小有机物质洗净，以达到加工表面清洁及改质的功能，在封装、黏着、印刷、镀膜制程前，有效提升产品稳定性，不只让原本的清洁、改质效果及速度不受影响外，更大大提升了处理面积，加快了生产速度及产品的可*度，降低生产成本。其特性为使用气体为空气或N2、电浆密度及效率高、处理速度快、电浆均匀性佳及清洁或改质之效能优异，并已获得多项专利。
馗鼎奈米科技表示，馗鼎之技术团队在电浆领域的研发已有十余年的历史，在国内对于电浆技术的开发可说是位于领导的地位，已是国内最大常压电浆设备生产制造商，其产品稳定性及可*度已获国内面板大厂肯定。馗鼎表示，有鉴于国内面板大厂不断扩厂，以往关键性零件及设备多掌握在国外大厂手上。但国外设备昂贵、维修不易，以致于建厂成本居高不下。近年来国内面板大厂扶植本土设备，且国人自行研发设计之产品不只在价格上取得优势，更在技术支持、维修、售后服务上不需仰赖国外原厂，时效上更是一大优势。举凡PCB、LCD、半导体、手机、通讯、光电及传统塑料都将是受惠者。
馗鼎奈米科技是以专业之电浆、材料及机电等技术为背景之团队，是一专业从事电浆技术开发与各式薄膜制造之公司，除了现有技术团队之外亦与国立成功大学化工系进行建教合作。目前该公司是国内唯一具有自行建立类钻石镀膜设备和开发新制程技术能力的厂商，包括日本光盘模具原厂都直接委托馗鼎进行镀膜代工，目前在光盘模具镀膜之市占率超过三成。因此欢迎各行业共同合作开发相关技术与产品，另外由于该公司的长期营运规划与市场需求之考虑，该公司已开始规划设备与技术移转之相关事宜，后续将朝类钻碳镀膜之整厂输出业务迈进。
馗鼎更进一步表示，由于电浆技术涉及层面相当广泛，因此该公司将会在该领域中持续钻研，以提供国内各行业所需求之电浆技术，另外也可接受客户委托设计专用之电浆设备或策略联盟，以开创更宽广的电浆技术商机。
常压式电浆清洗设备
低压式电浆清洗设备
1.可清洁物品材质：玻璃、塑料、金属、陶瓷、橡胶、含水分之材质等。
2.多项产品选择，清洗范围3~700mm(依机型而定)
3.可调整电功率、处理距离、处理速度及气体种类等，操作简单
4.可使用气体：N2、AIR(CDA)、Ar、O2等气体
5.可随时启动停止，不需暖机
6.MFC流量控制，喷射电浆稳定
7.PLC控制，RS232外界沟通
8.清洁效果优异
9.多项专利设计
10.应用产业LCD产业STN、TFT、OLED、LTPS及PCB、光电组件、封装贴合前清洁
For：LCD-LCM(COB、COF、COG、OLB)；LED-packaging；IC-packaging；PCB；Flexible PCB
电浆系统ODM
． 物理气相沉积系统（ PVD ）
． 化学气相沉积系统（CVD）
． 电浆辅助化学气相沉积系统（PECVD）
． 离子披覆系统（ Ion-Plating System）
． 热蒸镀系统（Thermal Evaporation）
． 电子枪蒸镀系统（E-gun Evaporation ）
． 溅镀系统（Sputtering System）
． 电弧离子镀膜系统（Arc Ion-Plating System）
． 感应耦合高密度电浆系统（ICP System）
类钻碳(石)薄膜镀膜
应用
– 在切削工具上之应用
– 在光学镜片上之应用
– 在计算机数据储存之应用
– 在封装上之应用
– 在生医材料上应用
– 在化学药品储存上之应用
– 在散热方面上之应用
– 在亲疏水特性上的应用
– IC亲嘴
特性：耐磨耗、抗腐蚀、摩擦系数小，可大幅提高模具及工具的使用寿命。
． 高硬度 (extreme hardness)：3000~5000 kg mm-2
． 耐腐蚀性佳 (chemical inertness)
． 表面平滑 (smooth surface)：Ra＜0.2nm
． 摩擦系数小 (low friction coefficient)：~0.01
． 低表面能（low surface energy）
． 膜致密度高 (high density)
． 电绝缘性佳 (high electrical resistivity)：108-1013ohm-cm
． 热传导性佳 (high thermal conductivity)：4-10W/m-K
． 生物兼容性佳 (biocompatibility)
． 抗磨耗性佳 (high wear resistance)
． 可透 IR 及可见光 (transparent in IR and visible range)
． 能在低温下成长 (low temperature deposition)：
． 使用温度可达
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